Tørr etsende gass difluormetan

Tørr etsing, også kjent som plasmaetsing, bruker høyenergiplasma for å fjerne materiale fra overflaten av en wafer. Plasma består av kjemisk reaktive ioner og frie radikaler som bombarderer waferen, bryter materialets molekylære bindinger og får dem til å bli etset bort. Tørre etsningsteknikker inkluderer reaktiv ionetsing (RIE), plasmaetsing og ionetsing. Tørr etsing gir bedre kontroll over etseprosessen, gir høyere oppløsning og er i stand til å etse mer komplekse strukturer

R32, også kjent som difluormethan, er en svært effektiv etsegass som er mye brukt i plasmaetseprosessene innen elektronikkindustrien. Videre er det en enestående kjølevæske som ikke bryter ned ozonlaget og er mye brukt i kjøleutstyr som klimaanlegg, kjøleskap og bilklimaanlegg. Å omfavne denne miljøvennlige kjølevæsken sikrer ikke bare at vi gjør vår del for miljøet, men garanterer også at vi kan opprettholde optimale temperaturer for enhetene våre mens vi opererer med maksimal effektivitet. R32 presenterer virkelig en bemerkelsesverdig løsning som møter de ulike behovene i bransjen i dag.